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1nm可期!ASML研发第二代EUV光刻机

2019-7-4 04:36 PM/ 发布者: yuhangg/ 查看: 1625/ 评论: 0

摘要半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这部分的成本就能占到33 ...

半导体制造过程中最复杂也是最难的步骤就是光刻,光刻机也因此成为最重要的半导体制造设备。

在7nm制程的较量中,台积电之所以能够领先,一个很重要的原因就是EUV技术,在半导体制造的工艺中,这部分的成本就能占到33%左右。

目前最先进的光刻机就是来自这家ASML公司生产的EUV光刻机,每台售价超过1亿美元,而且供不应求。

ASML的主要客户为全球一线的晶圆厂,除了英特尔、三星和台积电这三大巨头之外,国内的中芯国际也是ASML的客户。

有外媒报道称,ASML公司目前正积极投资研发新一代EUV光刻机。

和往代的相比,新款EUV光刻机最大的变化就是高数值孔径透镜,通过提升透镜规格使得新一代光刻机的微缩分辨率、套准精度两大光刻机核心指标提升70%,达到业界对几何式芯片微缩的要求。

之前ASML公布的新一代EUV光刻机的量产时间是2024年,不过最新报道称下一代EUV光刻机是2025年量产,这个时间上台积电、三星都已经量产3nm工艺了,甚至开始冲击2纳米、1纳米。

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